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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Accelerating extreme ultraviolet lithography simulation with weakly guiding approximation and source position dependent transmission cross coefficient formula 
著者
和文: 田邊 容由, 神宮司 明良, 高橋 篤司.  
英文: Hiroyoshi Tanabe, Akira Jinguji, Atsushi Takahashi.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology 
巻, 号, ページ Vol. 23    Issue 1    014201
出版年月 2024年1月2日 
出版者
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会議名称
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開催地
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