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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Precise waveguide loss extraction using 300-mm wafer-level OFDR for optical process control monitoring 
著者
和文: 堀川 剛, 北村 敦, 八谷 将典, 西山 伸彦.  
英文: Tsuyoshi Horikawa, Atsushi Kitamura, Masanori Yatani, Nobuhiko Nishiyama.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Proceedings of IEEE SiPhotonics 2024 
巻, 号, ページ        
出版年月 2024年4月15日 
出版者
和文: 
英文:IEEE 
会議名称
和文:IEEE SiPhotonics 2024 
英文: 
開催地
和文:浦安 
英文:Urayasu 
アブストラクト The propagation loss for silicon waveguides extracted by wafer-level OFDR was verified by comparing it with the cutback method. As the results of evaluating for 256 waveguides with a width of 420-480 nm, the OFDR and cut-back methods found to provide almost the same loss with a correlation coefficient of 0.96, indicating the applicability of OFDR to manufacturing monitoring.

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