イオン注入法により形成したn型4H-SiC薄膜の低温熱電特性 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	イオン注入法により形成したn型4H-SiC薄膜の低温熱電特性
英文:

著者

和文:	椙村樹・柴山茂久・坂下満男・中塚理, 和田涼太・黒井隆, 片瀬貴義, 黒澤昌志.
英文:	椙村樹・柴山茂久・坂下満男・中塚理, 和田涼太・黒井隆, Takayoshi Katase, 黒澤昌志.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2024年9月10日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	日本セラミックス協会第37回秋季シンポジウム
英文:

開催地

和文:
英文:

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