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論文・著書情報


タイトル
和文:薄膜転写技術による磁気光学材料集積用犠牲層材料の検討 
英文: 
著者
和文: 中西 航輔, 高 磊, 須藤 吉克, 村井 俊哉, 山田 浩治, 庄司 雄哉.  
英文: Kosuke Nakanishi, 高 磊, 須藤 吉克, Toshiya Murai, 山田 浩治, Yuya Shoji.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ         17a-C32-9
出版年月 2024年9月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第85回応用物理学会秋季学術講演会 
英文: 
開催地
和文:新潟 
英文: 

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