Impact of O2/(O2+Ar) flow ratio on the properties of Li-doped NiO thin films by pressure-gradient radiofrequency magnetron sputtering

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Impact of O2/(O2+Ar) flow ratio on the properties of Li-doped NiO thin films by pressure-gradient radiofrequency magnetron sputtering

著者

和文:	阿部鷹介, 西村昂人, 山田明.
英文:	Yosuke Abe, Takahito Nishimura, Akira Yamada.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Physica Status Solidi A

巻, 号, ページ

vol. 222 2400497

出版年月

2024年12月8日

出版者

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会議名称

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開催地

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英文: