Dependence of Etching Rate Ratio on Ion Energy and Crystal Orientation for KOH Etching of Amorphized Si Etching Masks Formed by N+ Irradiation

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Dependence of Etching Rate Ratio on Ion Energy and Crystal Orientation for KOH Etching of Amorphized Si Etching Masks Formed by N+ Irradiation

著者

和文:	佐藤美那, 遠西美重, 松谷晃宏.
英文:	Mina Sato, Mie Tohnishi, Akihiro Matsutani.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2025年11月

出版者

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会議名称

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英文:	MNC2025 (38th International Microprocesses and Nanotechnology Conference)

開催地

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