Development of PS-PMMA Block Copolymers Incorporating Poly(<i>n</i>-butyl methacrylate) for Low Temperature Thermal Annealing toward Perpendicular Microdomain Alignment

論文・著書情報

タイトル

和文:	Development of PS-PMMA Block Copolymers Incorporating Poly(n-butyl methacrylate) for Low Temperature Thermal Annealing toward Perpendicular Microdomain Alignment
英文:	Development of PS-PMMA Block Copolymers Incorporating Poly(n-butyl methacrylate) for Low Temperature Thermal Annealing toward Perpendicular Microdomain Alignment

著者

和文:	WangHsi-Chih, 瀬下武広, Takahiro Dazai, Kazufumi Sato, 畠山歓, Yuta Nabae, 早川晃鏡.
英文:	Hsi-Chih Wang, Takehiro Seshimo, Takahiro Dazai, Kazufumi Sato, Kan Hatakeyama, Yuta Nabae, Teruaki Hayakawa.

言語

English

掲載誌/書名

和文:	Journal of Photopolymer Science and Technology
英文:	Journal of Photopolymer Science and Technology

巻, 号, ページ

Vol. 38 No. 3 pp. 223-230

出版年月

2025年6月

出版者

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会議名称

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開催地

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DOI