スパッタリング法による高品質窒化物薄膜のエピタキシャル成長

論文・著書情報

タイトル

和文:	スパッタリング法による高品質窒化物薄膜のエピタキシャル成長
英文:	Epitaxial growth of high-quality nitride epitaxial films using sputtering method

著者

和文:	相馬拓人, 平出悠士, 新津甲大, 笹原悠輝, 仙田敬, 水谷仁美, 吉松公平, 安田啓介, 間嶋拓也, 組頭広志, 大友明.
英文:	Takuto Soma, Yushi Hiraide, Kodai Niitsu, Yuki Sasahara, 仙田敬, 水谷仁美, Kohei Yoshimatsu, 安田啓介, 間嶋拓也, Hiroshi Kumigashira, Akira Ohtomo.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
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巻, 号, ページ

出版年月

2026年3月16日

出版者

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会議名称

和文:	第73回応用物理学会春季学術講演会
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開催地

和文:	東京
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