Mask 3D Parameter Prediction in EUV Lithography by Convolutional Neural Network

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Mask 3D Parameter Prediction in EUV Lithography by Convolutional Neural Network

著者

和文:	高橋篤司, 杉山萌, 下田将之, 田邊容由.
英文:	Atsushi Takahashi, Moe Sugiyama, Masayuki Shimoda, Hiroyoshi Tanabe.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2025年10月

出版者

和文:
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会議名称

和文:	2025 IEEE Asia Pacific Conference on Circuits and Systems (APCCAS)
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開催地

和文:
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