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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:CO2/SF6-based Deep Reactive Ion Etching of Si 
著者
和文: 松谷晃宏, 佐藤美那, 藤本美穂, 遠西美重.  
英文: Akihiro Matsutani, Mina Sato, Miho Fujimoto, Mie Tohnishi.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ Vol. 38    No. 3    pp. 1193-1205
出版年月 2026年3月 
出版者
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会議名称
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開催地
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公式リンク https://sensors.myu-group.co.jp/article.php?ss=6138
 
DOI https://doi.org/10.18494/SAM6138

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