STCC formula including polarization and M3D effects in high-NA EUV lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	STCC formula including polarization and M3D effects in high-NA EUV lithography

著者

和文:	田邊容由, 杉山萌, 下田将之, 高橋篤司.
英文:	Hiroyoshi Tanabe, Moe Sugiyama, Masayuki Shimoda, Atsushi Takahashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proc. SPIE

巻, 号, ページ

Vol. 13979

出版年月

2026年2月

出版者

和文:
英文:	SPIE

会議名称

和文:
英文:	Optical and EUV Nanolithography XXXIX

開催地

和文:
英文:

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DOI