EUV M3D parameter prediction of curvilinear mask patterns by convolutional neural networks

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	EUV M3D parameter prediction of curvilinear mask patterns by convolutional neural networks

著者

和文:	Moe Sugiyama, Masayuki Shimoda, Hiroyoshi Tanabe, Atsushi Takahashi.
英文:	Moe Sugiyama, Masayuki Shimoda, Hiroyoshi Tanabe, Atsushi Takahashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proc. SPIE

巻, 号, ページ

Vol. 13980 pp. 139801J-1-6

出版年月

2026年2月

出版者

和文:
英文:	SPIE

会議名称

和文:
英文:	DTCO and Computational Patterning V

開催地

和文:
英文:

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DOI