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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Progress of fabrication and characterization of double quanutm dots on a Leti Ge wafer 
著者
和文: WENChutian, 荒川雄登, JIANGBO, 松岡竜太郎, 溝口来成, J.M. Hartmann, P. A. Mortemousque, 小寺哲夫.  
英文: Chutian Wen, Yuto Arakawa, Bo Jiang, Ryutaro Matsuoka, Raisei Mizokuchi, J.M. Hartmann, P. A. Mortemousque, Tetsuo Kodera.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2026年12月15日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:1st International Workshop on Industrial-grade Ge Quantum Technology (InGeQT workshop 2025) 
開催地
和文: 
英文:Osaka 

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