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三村和仙 研究者情報
姓 |
三村 |
Mimura |
名 |
和仙 |
Takanori |
状態 |
本学を転出・卒業 |
職位 / 称号 |
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ORCID ID |
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教育担当 : 主担当 |
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研究担当 |
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研究者プロフィール |
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講義ノート |
TokyoTech Open Course Ware |
学位論文 |
エピタキシャル成長したHfO2基薄膜を用いた強誘電相出現に関する研究,
要約,
博士(工学),
東京工業大学,
2020/03/26,
エピタキシャル成長したHfO2基薄膜を用いた強誘電相出現に関する研究,
論文要旨,
博士(工学),
東京工業大学,
2020/03/26,
A study on stabilization of ferroelectric phase in epitaxial HfO2 - based films,
Thesis,
Doctor (Engineering),
Tokyo Institute of Technology,
2020/03/26,
A study on stabilization of ferroelectric phase in epitaxial HfO2 - based films,
Exam Summary,
Doctor (Engineering),
Tokyo Institute of Technology,
2020/03/26,
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