国内会議発表 (査読なし・不明)

• 山中悠生, 河村和哉, 金子智, 松田晃史. 酸化物固溶体のH2還元によるfcc型Ni1-xFexエピタキシャル薄膜の作製, 第72回応用物理学会春季学術講演会, 応用物理学会, Mar. 2025.  公式リンク  
  
• 河村和哉, 金子健太, 山中悠生, 金子智, 松田晃史. ニッケル酸ランタン薄膜のエピタキシャル成長および還元による酸素欠損型構造の作製, 第85回応用物理学会秋季学術講演会, 第85回応用物理学会秋季学術講演会 予稿集, 応用物理学会, Sept. 2024.
• 山中悠生, 河村和哉, 金子智, 松田晃史. Ni1–xFexO薄膜の室温成長およびH2還元によるfcc型Ni1–xFexエピタキシャル薄膜の作製, 第40回 日本セラミックス協会 関東支部研究発表会, 日本セラミックス協会 関東支部, Sept. 2024.
• 喬宇馳, 金子健太, 山中悠生, 金子智, 吉本護, 松田晃史. 真空紫外線照射による亜酸化銅エピタキシャル薄膜の表面構造変化と導電性向上, 日本セラミックス協会 第43回電子材料研究討論会, 日本セラミックス協会 電子材料部会, Nov. 2023.

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