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小林吉彰 2020年 研究業績一覧 (17件 / 80件)
論文
国際会議発表 (査読有り)
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Yoshiaki Kobayashi,
Norihisa Akamatsu,
Shoichi Kubo,
Atsushi Shishido.
Three-dimensional molecular alignment patterning of liquid-crystalline polymer films directed by scanning wave photopolymerization,
3rd G’L’owing Polymer Symposium in Kanto,
Nov. 2020.
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Yoshiaki Kobayashi,
Ryo Taguchi,
Norihisa Akamatsu,
Atsushi Shishido.
Three-dimensional Molecular Alignment Photo-patterning of Liquid-crystalline Polymer Films,
The 37th International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST-37),
May 2020.
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Yoshiaki Kobayashi,
Norihisa Akamatsu,
Atsushi Shishido.
Scanning wave photopolymerization generates aligned polymer film for liquid crystal alignment layer,
The 1st International Symposium on Molecular Engine,
Jan. 2020.
国内会議発表 (査読なし・不明)
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中村紘菜,
小林吉彰,
赤松範久,
久保祥一,
宍戸厚.
光回折を利用した動的光重合誘起周期構造体の解析,
2020年日本液晶学会オンライン研究発表会,
Oct. 2020.
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石山拓途,
小林吉彰,
赤松範久,
久保祥一,
宍戸厚.
動的光重合におけるフェニルベンゾエート骨格を有する異方性メタクリレートの重合挙動,
2020年日本液晶学会オンライン研究発表会,
Oct. 2020.
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石山拓途,
小林吉彰,
赤松範久,
久保祥一,
宍戸厚.
フェニルベンゾエート骨格を有する異方性メタクリレ ートの動的光重合による分子配向誘起,
第10回CSJ化学フェスタ2020,
Oct. 2020.
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中村紘菜,
小林吉彰,
赤松範久,
久保祥一,
宍戸厚.
デジタルライトプロセッサーを用いた動的光重合誘起型周期構造体の形成,
第10回CSJ化学フェスタ2020,
Oct. 2020.
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中村紘菜,
小林吉彰,
赤松範久,
久保祥一,
宍戸厚.
デジタルライトプロセッサーを利用した動的光重合による周期構造体形成,
第69回高分子討論会,
Sept. 2020.
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石山拓途,
小林吉彰,
赤松範久,
久保祥一,
宍戸厚.
動的光重合におけるフェニルベンゾエート骨格を有する液晶モノマーの分子配向挙動,
第69回高分子討論会,
Sept. 2020.
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小林吉彰,
赤松範久,
久保祥一,
宍戸厚.
動的光重合を利用した三次元分子配向を有する液晶高分子膜の作製,
第69回高分子討論会,
Sept. 2020.
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Yoshiaki Kobayashi,
Norihisa Akamatsu,
Atsushi Shishido.
Fabrication of the liquid-crystalline polymer film with three-dimensional alignment patterns by scanning wave photopolymerization,
日本化学会第100春季年会,
Mar. 2020.
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石山拓途,
太田めぐみ,
小林吉彰,
赤松範久,
宍戸厚.
動的光重合を利用した一軸分子配向誘起におけるモノマー構造の 影響,
日本化学会第100春季年会,
Mar. 2020.
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中村紘菜,
太田めぐみ,
小林吉彰,
相沢美帆,
赤松範久,
佐々木健夫,
宍戸厚.
動的光重合を利用した高分子周期構造体の自己組織化挙動,
日本化学会第100春季年会,
Mar. 2020.
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小林吉彰,
赤松範久,
宍戸厚.
Scanning wave photopolymerization generates aligned polymer film for liquid crystal alignment layer,
発動分子科学第3回領域会議,
Jan. 2020.
その他の論文・著書など
特許など
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宍戸厚,
小林吉彰,
橋本彩有里,
赤松範久,
須崎 吾郎 ,
鳥山 重隆 .
凹凸構造体の製造方法.
特許.
登録.
国立大学法人東京工業大学, 日産化学株式会社.
2020/03/10.
特願2020-040738.
2021/09/24.
特開2021-142647.
特許第7452815号.
2024/03/11
2024.
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