国際会議発表 (査読有り)

• Mina Sato, Mie Tohnishi, Miho Fujimoto, Akihiro Matsutani. Submicrometer-sized Patterning of Photoresist by Electron Beam Projection Lithography Using Tabletop Scanning Electron Microscope System and Si Stencil Mask, MNC2024 (37th International Microprocesses and Nanotechnology Conference), 14P-1-6, Nov. 2024.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 藤本美穂, 松谷晃宏. 裏面露光によるサブミクロン直径のSU-8円柱構造の作製と蛍光観察, 第71回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2024.
• 藤本美穂, 松谷晃宏. 酸素プラズマ照射した電子線レジストSML表面のXPS分析, 2023年 第70回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2023.
• 藤本美穂, 松谷晃宏. 酸素プラズマ照射によるポジ型電子線レジストSMLの増感効果, 2022年 第69回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2022.
• 藤本美穂, 松谷晃宏, 栁田保子. 微細加工した温度応答性感光樹脂薄膜における巨視的相転移の観察, 第67回応用物理学会春季学術講演会, 13a-PA1-15, Mar. 2020.
• 松谷晃宏, 佐藤美那, 遠西美重, 藤本 美穂, 平野 明子, 西沢望, 進士忠彦, 初澤毅. 東京工業大学におけるクリーンルーム統合共用化による 組織的研究支援の推進, 研究・イノベーション学会第34回年次学術大会, 研究・イノベーション学会第34回年次学術大会講演要旨集, pp. 245-248, Oct. 2019.

特許など

• 栁田保子, 松谷晃宏, 藤本美穂. 温度応答性レンズ. 特許. 公開. 国立大学法人東京工業大学. 2020/02/14. 特願2020-023379. 2021/09/02. 特開2021-128278. 2021.

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