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特許情報


発明の名称
液晶性ブロック共重合体塗膜、液晶性ブロック共重合体薄膜の製造方法及びパターン形成方法 
発明者
彌田智一, 小村元憲, 新納　洋, 野殿　光史　.  
種別
特許 
状態
登録 
出願人
国立大学法人東京工業大学, 三菱レイヨン株式会社.  
出願日
2011/05/09
出願番号
特願2011-104466
公開日
2012/11/29
公開番号
特開2012-233138
登録日
2015/05/29
登録番号
特許第5752987号

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