【重要】T2R2・STARSearchの停止と後継システムについて
English
Home
>
ヘルプ
特許情報
発明の名称
高分子膜の製造方法および高分子膜製造用電解重合装置
発明者
稲木信介
,
渕上壽雄
, 石黒 豊.
種別
特許
状態
登録
出願人
国立大学法人東京工業大学, 日本ケミコン株式会社.
出願日
2011/09/08
出願番号
特願2011-196219
公開日
2013/03/28
公開番号
特開2013-057103
登録日
2016/06/24
登録番号
特許第5954558号
©2007
Institute of Science Tokyo All rights reserved.