TFT応用に向けたRFマグネトロンスパッタリング法によるMoS₂膜の形成

Publication Information

Title

Japanese:	TFT応用に向けたRFマグネトロンスパッタリング法によるMoS₂膜の形成
English:

Author

Japanese:	大橋匠, 松浦賢太朗, 石原聖也, 日比野祐介, 澤本直美, 角嶋邦之, 筒井一生, 小椋厚志, 若林整.
English:	Takumi Ohashi, 松浦賢太朗, 石原聖也, 日比野祐介, 澤本直美, 角嶋邦之, 筒井一生, 小椋厚志, 若林整.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:	電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
English:

Volume, Number, Page

Vol. 116 No. 118 pp. 75-78

Published date

June 29, 2016

Publisher

Japanese:	電子情報通信学会
English:

Conference name

Japanese:
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Conference site

Japanese:
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