極浅プレアモルファス層によるTiSi<sub>2</sub>形成膜厚制御 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	極浅プレアモルファス層によるTiSi₂形成膜厚制御
英文:

著者

和文:	古山直人, 加藤有亮, 大見俊一郎, 酒井徹志.
英文:	古山直人, 加藤有亮, 大見俊一郎, 酒井徹志.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第51回応用物理学関係連合講演会
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 2 pp. 907

出版年月

2004年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.