HfNのECR Ar/O<sub>2</sub>プラズマ酸化によるHfO<sub>x</sub>N<sub>y</sub>薄膜の形成 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	HfNのECR Ar/O₂プラズマ酸化によるHfO_xN_y薄膜の形成
英文:

著者

和文:	黒瀬朋紀, 内川偉史, 大見俊一郎, 酒井徹志.
英文:	黒瀬朋紀, 内川偉史, 大見俊一郎, 酒井徹志.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第65回応用物理学会学術講演会
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 2 pp. 679

出版年月

2004年

出版者

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会議名称

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開催地

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英文:

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