LaO<sub>x</sub>/YO<sub>x</sub>/Si界面組成遷移層の化学結合状態の熱処理依存性

論文・著書情報

タイトル

和文:	LaO_x/YO_x/Si界面組成遷移層の化学結合状態の熱処理依存性
英文:

著者

和文:	吉田徹史, 松田徹, 岡本英介, 品川盛治, 野平博司, 中川健太郎, 黒木裕介, 宮内邦裕, 大見俊一郎, 岩井洋, 池永英司, 高田恭孝, 小林啓介, 服部健雄.
英文:	吉田徹史, 松田徹, 岡本英介, 品川盛治, 野平博司, 中川健太郎, 黒木裕介, 宮内邦裕, 大見俊一郎, 岩井洋, 池永英司, 高田恭孝, 小林啓介, 服部健雄.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第52回応用物理学関係連合講演会講演予稿集
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 2 pp. 918

出版年月

2005年

出版者

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会議名称

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開催地

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英文: