Properties of Hydrogenated Microcrystalline Cubic Silicon Carbide Films Deposited by Hot Wire Chemical Vapor Deposition at a Low Substrate Temperature

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Properties of Hydrogenated Microcrystalline Cubic Silicon Carbide Films Deposited by Hot Wire Chemical Vapor Deposition at a Low Substrate Temperature

著者

和文:	宮島晋介, 山田明, 小長井誠.
英文:	Shinsuke Miyajima, Akira Yamada, Makoto Konagai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 43 No. 9A/B pp. L1190

出版年月

2004年9月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI