HfNのECR Ar/O<sub>2</sub>プラズマ酸化プロセスによる極薄HfSiONの形成 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	HfNのECR Ar/O₂プラズマ酸化プロセスによる極薄HfSiONの形成
英文:

著者

和文:	黒瀬朋紀, 佐藤雅樹, 大見俊一郎.
英文:	黒瀬朋紀, 佐藤雅樹, 大見俊一郎.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 2 pp. 681

出版年月

2005年9月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第66回応用物理学会学術講演会講演予稿集
英文:

開催地

和文:	徳島大学
英文:

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