Effect of Ultra-thin Ti Layer on PtSi Work Function Modulation

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Effect of Ultra-thin Ti Layer on PtSi Work Function Modulation

著者

和文:	S. Ohmi, Y. Kato, H. Fujiura, Y. Sawakuma, N. Ohkuma.
英文:	S. Ohmi, Y. Kato, H. Fujiura, Y. Sawakuma, N. Ohkuma.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

pp. 426-429

出版年月

2005年9月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	2005 IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing, Conference Proceedings

開催地

和文:
英文:	San Jose, USA