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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Electrical Properties of Ferroelectric Gate HEMT Structures 
著者
和文: 大見俊一郎.  
英文: SHUN-ICHIRO OHMI.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文:応用物理学欧文誌 
英文:Japanese Journal of Applied Physics 
巻, 号, ページ Vol. 35    No. 2    pp. 1254-1257
出版年月 1996年 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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