一括X線回折装置を用いた薄膜の作製条件高速最適化法 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	一括X線回折装置を用いた薄膜の作製条件高速最適化法
英文:

著者

和文:	大谷　亮, 西村　潤, 福村知昭, M. Lippmaa, 鯉田　崇, 川崎雅司, 鯉沼秀臣.
英文:	大谷　亮, 西村　潤, 福村知昭, M. Lippmaa, 鯉田　崇, 川崎雅司, 鯉沼秀臣.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第61回応用物理学会学術講演会講演予稿集
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 2 pp. 527

出版年月

2000年

出版者

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会議名称

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開催地

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英文:

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