Si基板上へのPLD法YSZ薄膜の初期成長過程における1nm前後SiO<sub>2</sub>膜の影響

論文・著書情報

タイトル

和文:	Si基板上へのPLD法YSZ薄膜の初期成長過程における1nm前後SiO₂膜の影響
英文:	Effect of ca. 1nm SiO₂ for the Initial Growth Progress of YSZ Thin Film Deposited on Si Substrate by PLD

著者

和文:	杉浦充典, 永野大介, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	杉浦充典, 永野大介, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会第16回関東支部研究発表会
英文:	16 th Ceramic Research Conference of Kanto Branch

巻, 号, ページ

No. 1A08 pp. 14-15

出版年月

2000年

出版者

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会議名称

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開催地

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