MOCVDによるチタン酸鉛薄膜の成膜過程における残留応力発生の機構

論文・著書情報

タイトル

和文:	MOCVDによるチタン酸鉛薄膜の成膜過程における残留応力発生の機構
英文:	Mechanism of Residual Stress Generation during Deposition Process of Lead Titanate Thin Film by MOCVD

著者

和文:	内田寛, 木口賢紀, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	内田寛, 木口賢紀, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会2000年年会
英文:	Annual Meeting of The Ceramic Society of Japan, 2000

巻, 号, ページ

No. 2D35 pp. 182

出版年月

2000年

出版者

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会議名称

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開催地

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