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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Improved Thermal Stability of Ultra-thin CoSi┣D22┫D2 layers by Oxygen Annealing 
著者
和文: 大見俊一郎.  
英文: SHUN-ICHIRO OHMI.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 
巻, 号, ページ Vol. 514        pp. 157-162
出版年月 1998年 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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英文: 

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