非対称Ｘ線回折によるエピタキシャル薄膜の残留応力の評価手法 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	非対称Ｘ線回折によるエピタキシャル薄膜の残留応力の評価手法
英文:

著者

和文:	内田寛, 木口賢紀, 佐伯淳, 脇谷尚樹, 石澤伸夫, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	内田寛, 木口賢紀, 佐伯淳, 脇谷尚樹, 石澤伸夫, 篠崎和夫, 水谷惟恭.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会学術論文誌
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 107 No. 7 pp. 606-610

出版年月

1999年

出版者

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会議名称

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開催地

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