MOCVD法によるPbTiO3薄膜の成長様式と成膜速度が配向性に及ぼす影響 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	MOCVD法によるPbTiO3薄膜の成長様式と成膜速度が配向性に及ぼす影響
英文:

著者

和文:	玄一, 黒柳一誠, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	玄一, 黒柳一誠, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会学術論文誌
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 107 No. 10 pp. 955-960

出版年月

1999年

出版者

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会議名称

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開催地

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