フォトリソグラフィ技術によるPt/Si基板上への選択結晶成長PZT薄膜の合成とその電気特性

論文・著書情報

タイトル

和文:	フォトリソグラフィ技術によるPt/Si基板上への選択結晶成長PZT薄膜の合成とその電気特性
英文:	Preparation and Electrical Properties of PZT Thin Films Grown Selectively on Pt/Si Substrates by Photolithography Technique

著者

和文:	横村伸緒, 伊藤拓義, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	横村伸緒, 伊藤拓義, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会第16回関東支部研究発表会
英文:	16 th Ceramic Research Conference of Kanto Branch

巻, 号, ページ

No. 1A05 pp. 8-9

出版年月

2000年

出版者

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会議名称

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開催地

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