RPECVD法によるAl<sub>2</sub>O<sub>3</sub>のSi基板上への形成 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	RPECVD法によるAl₂O₃のSi基板上への形成
英文:

著者

和文:	大見俊一郎, R. S. Johnson, J. G. Hong, G. Lucovsky, 岩井洋.
英文:	大見俊一郎, R. S. Johnson, J. G. Hong, G. Lucovsky, 岩井洋.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第４８回応用物理学関係連合講演会
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 2

出版年月

2001年

出版者

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会議名称

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開催地

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英文:

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