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論文・著書情報


タイトル
和文:次世代ゲート絶縁膜用高誘電率薄膜に関する研究 
英文: 
著者
和文: 岩井 洋, 大見 俊一郎.  
英文: 岩井 洋, 大見 俊一郎.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:日本学術振興会 未来開拓学術研究推進事業 研究プロジェクト、｢次世代ULSI用薄膜材料の開発とナノスケールプロセスインテグレーション｣第８回研究会 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2001年 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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英文: 

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