高誘電率希土類酸化物のSi基板上への形成 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	高誘電率希土類酸化物のSi基板上への形成
英文:

著者

和文:	田口順一, 山本浩之, 佐藤航一郎, 武田光弘, 大島享介, 大見俊一郎, 石原宏, 岩井洋.
英文:	田口順一, 山本浩之, 佐藤航一郎, 武田光弘, 大島享介, 大見俊一郎, 石原宏, 岩井洋.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第62回応用物理学会学術講演会
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 2

出版年月

2001年

出版者

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会議名称

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開催地

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英文:

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