High-kゲート絶縁膜用酸化物材料の研究 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	High-kゲート絶縁膜用酸化物材料の研究
英文:

著者

和文:	徳光永輔, 大見俊一郎, 岩井洋.
英文:	徳光永輔, 大見俊一郎, 岩井洋.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	電気学会電子材料研究会
英文:

巻, 号, ページ

Vol. EFM-01 No. 12 pp. 37-41

出版年月

2001年

出版者

和文:
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会議名称

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英文:

開催地

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英文:

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