Effect of the Thickness of SiO2 under Layer on the Initial Stage of Epitaxial Growth Process of Yttria-Stabilized Zirconia (YSZ) Thin Film Deposited on Si(001) Substrate

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Effect of the Thickness of SiO2 under Layer on the Initial Stage of Epitaxial Growth Process of Yttria-Stabilized Zirconia (YSZ) Thin Film Deposited on Si(001) Substrate

著者

和文:	Hirokazu Ishigaki, Tomoaki Yamada, Naoki Wakiya, Nobuyasu Mizutani, Kazuo Shinozaki.
英文:	Hirokazu Ishigaki, Tomoaki Yamada, Naoki Wakiya, Nobuyasu Mizutani, Kazuo Shinozaki.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	J. Ceram. Soc. Japan

巻, 号, ページ

Vol. 109 No. 9 pp. 766-770

出版年月

2001年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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