EFFECT OF REACTIVE GAS MODULATION ON OXIDE FILM PROPERTIES IN RF REACTIVE SPUTTERING

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	EFFECT OF REACTIVE GAS MODULATION ON OXIDE FILM PROPERTIES IN RF REACTIVE SPUTTERING

著者

和文:	H.Sekiguchi, Takashi Murakami, A.Kanzawa, Muhammad Ahsan Habib.
英文:	H.Sekiguchi, Takashi Murakami, A.Kanzawa, Muhammad Ahsan Habib.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proc. 3rd Asia-Pacific Conf. Plasma Sci. Technol

巻, 号, ページ

Vol. 2 pp. 505-510

出版年月

1996年

出版者

和文:
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会議名称

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英文:

開催地

和文:
英文: