Diffusional Relaxation and Void Growth in an Aluminum Interconnect of Very Large Scale Integration

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Diffusional Relaxation and Void Growth in an Aluminum Interconnect of Very Large Scale Integration

著者

和文:	M. Kato, H. Niwa, H. Yagi, H. Tsuchikawa.
英文:	M. Kato, H. Niwa, H. Yagi, H. Tsuchikawa.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 68 No. 1 pp. 334-338

出版年月

1990年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: