Depth Profiling of High-K Dielectric/Si Interfacial Transition Layer

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Depth Profiling of High-K Dielectric/Si Interfacial Transition Layer

著者

和文:	T. Shiraishi, T. Nakamura, K. Takahashi, I. Kashiwagi, C. Ohshima, H. Nohira, S. Ohmi, H. Iwai, T. Hattori.
英文:	T. Shiraishi, T. Nakamura, K. Takahashi, I. Kashiwagi, C. Ohshima, H. Nohira, S. Ohmi, H. Iwai, T. Hattori.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Extended Abstracts of the 2002 International Conference on Solid State Devices and Materials

巻, 号, ページ

pp. 758-759

出版年月

2002年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
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開催地

和文:
英文: