Morphological Evolution of Grain-Boundary SiO<sub>2</sub> in Internally Oxidized Cu-Si Bicrystals

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Morphological Evolution of Grain-Boundary SiO₂ in Internally Oxidized Cu-Si Bicrystals

著者

和文:	H. Sato, I. Ota, 藤居俊之, 尾中晋, 加藤雅治.
英文:	H. Sato, I. Ota, T. Fujii, SUSUMU ONAKA, MASAHARU KATO.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Materials Transactions

巻, 号, ページ

Vol. 45 No. 3 pp. 818-823

出版年月

2004年3月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI