Solid Source Dry Etching Process for Ⅲ-V Compound Semiconductors

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Solid Source Dry Etching Process for Ⅲ-V Compound Semiconductors

著者

和文:	松谷晃宏, 大槻茂雄, 小山二三夫.
英文:	Akihiro Matsutani, Shigeo Ohtsuki, Fumio Koyama.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing

巻, 号, ページ

P-2A-42 pp. 475-476

出版年月

2006年1月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing

開催地

和文:
英文:	Sendai（Japan）