論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Reduced Critical Thickness for Strain Relaxed Si1-yCy films grown on SOI substrates

著者

和文:	M.Murano, H.Ishihara, A.Yamada, M.Konagai.
英文:	M.Murano, H.Ishihara, A.Yamada, M.Konagai.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:	25th Electronic Materials Symposium

巻, 号, ページ

Vol. -

出版年月

2006年7月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	25th Electronic Materials Symposium
英文:

開催地

和文:	Izu-no-kuni
英文:

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