Theoretical Modeling and Optimization of LPP EUV Light Source

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Theoretical Modeling and Optimization of LPP EUV Light Source

著者

和文:	西原功修, 藤間一美, 古河裕之, K.Gamada, T.Kagawa, Y-G.Kang, T.Kato, 河村徹, 小池文博, R.More, H. Maehara, M.Murakami, 西川亘, A.Sasaki, A.Sunahara, H.Tanuma, V.Zhakhovskii, 藤岡慎介, 西村博明, 島田義則, S.Uchida, N.Miyanaga, Y.Izawa.
英文:	Katsunobu Nishihara, Kazumi Fujima, Hiroyuki Furukawa, K.Gamada, T.Kagawa, Y-G.Kang, T.Kato, Tohru Kawamura, Fumihiro Koike, R.More, H. Maehara, M.Murakami, Takeshi Nishikawa, A.Sasaki, A.Sunahara, H.Tanuma, V.Zhakhovskii, Shinsuke Fujioka, Hiroaki Nishimura, Yoshinori Shimada, S.Uchida, N.Miyanaga, Y.Izawa.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	4th International Extreme UltraViolet Lithography (EUVL) Symposium, San Diego, California, USA, 07-09 November, 2005.

巻, 号, ページ

Vol. http://www.sematech.org/

出版年月

2005年11月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	3rd International Extreme UltraViolet Lithography Symposium, Miyazaki, Japan, 1-4 November, 2004.

開催地

和文:
英文:	San Diego, California, USA, 07-09 November, 2005.