Novel Fabricaition Process for Multi SOI Layers Using Selective Etching of SiGe in Multi Si/SiGe Layers

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Novel Fabricaition Process for Multi SOI Layers Using Selective Etching of SiGe in Multi Si/SiGe Layers

著者

和文:	Shun-ichiro Ohmi, Tomoyuki Nakanishi, Ken-ichi Yahashi, Tetsushi Sakai.
英文:	Shun-ichiro Ohmi, Tomoyuki Nakanishi, Ken-ichi Yahashi, Tetsushi Sakai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

pp. 61

出版年月

2006年6月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	2006 Electronic Materials Conference

開催地

和文:
英文:	Penn State Univ.