ECR-Ar/N<sub>2</sub>プラズマにより形成したHfO<sub>x</sub>N<sub>y</sub>膜を用いたn-MISFETの作製 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	ECR-Ar/N₂プラズマにより形成したHfO_xN_y膜を用いたn-MISFETの作製
英文:

著者

和文:	佐藤雅樹, 黒瀬朋紀, 大見俊一郎.
英文:	佐藤雅樹, 黒瀬朋紀, 大見俊一郎.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 2 pp. 854

出版年月

2006年3月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第53回応用物理学関係連合講演会講演予稿集
英文:

開催地

和文:	武蔵工業大学
英文:

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