HfNのECRプラズマ酸化により形成したHfO<sub>x</sub>N<sub>y</sub>のゲート絶縁膜応用 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	HfNのECRプラズマ酸化により形成したHfO_xN_yのゲート絶縁膜応用
英文:

著者

和文:	仲野雄介, 佐藤雅樹, 黒瀬朋紀, 大見俊一郎.
英文:	仲野雄介, 佐藤雅樹, 黒瀬朋紀, 大見俊一郎.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 2 pp. 715

出版年月

2006年8月

出版者

和文:
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会議名称

和文:	第67回応用物理学会学術講演会講演予稿集
英文:

開催地

和文:	立命館大学
英文:

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