Mechanism of Selective Etching of SiGe Layers in SiGe/Si Systems

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Mechanism of Selective Etching of SiGe Layers in SiGe/Si Systems

著者

和文:	J. Kato, H. Oka, K. Kanemoto, H. Hisamatsu, Y. Matsuzawa, Y. Kitano, T. Hara, M. Hoshina, 大見俊一郎.
英文:	J. Kato, H. Oka, K. Kanemoto, H. Hisamatsu, Y. Matsuzawa, Y. Kitano, T. Hara, M. Hoshina, S. Ohmi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	The 211th Meeting of The Electrochemical Society, Meeting Abstract

巻, 号, ページ

No. 868

出版年月

2007年5月

出版者

和文:
英文:	The Electrochemical Society

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: